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CRESSINGTON高真空离子溅射镀膜仪Cressington 208HR
主要特点包括:多种涂层材料选择:
磁控管头设计和有效的气体处理可实现广泛的靶材选择
精密厚度控制:使用MTM-220高分辨率厚度控制器优化厚度。
·多种样品台移动方式:独立的旋转、行星和倾斜运动可实现优化的涂层分布与覆盖。(查看RPT平台)
可变腔体几何结构:-
腔体几何结构可调节,用于粗略控制沉积速率。·广泛的操作压力范围:独立的电源/压力调节,可在氩气压力从0.15毫巴降至0.005毫巴及以下范围内运行。
·集成电压测量:-电压表可监测目标状态,有助于实现精细、重复的气体控制。
查看规格
用于FE-SEM的难涂覆样品涂层
Cressington 208HRD现可为在FE-SEM中对难度较大的样品进行涂覆时所遇到的问题提供切实的解决方案。为了最大程度地降低颗粒尺寸带来的影响,208HRD提供了全面的涂层材料,并对厚度及沉积条件实现了前所未有的控制。为减少电荷效应,208HRD的载物台设计以及广泛的操作压力范围使得能够实现对涂层均匀性和一致性的精准控制。
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主要特点包括:多种涂层材料选择:
磁控管头设计和有效的气体处理可实现广泛的靶材选择
精密厚度控制:使用MTM-220高分辨率厚度控制器优化厚度。
·多种样品台移动方式:独立的旋转、行星和倾斜运动可实现优化的涂层分布与覆盖。(查看RPT平台)
可变腔体几何结构:-
腔体几何结构可调节,用于粗略控制沉积速率。·广泛的操作压力范围:独立的电源/压力调节,可在氩气压力从0.15毫巴降至0.005毫巴及以下范围内运行。
·集成电压测量:-电压表可监测目标状态,有助于实现精细、重复的气体控制。
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用于FE-SEM的难涂覆样品涂层
Cressington 208HRD现可为在FE-SEM中对难度较大的样品进行涂覆时所遇到的问题提供切实的解决方案。为了最大程度地降低颗粒尺寸带来的影响,208HRD提供了全面的涂层材料,并对厚度及沉积条件实现了前所未有的控制。为减少电荷效应,208HRD的载物台设计以及广泛的操作压力范围使得能够实现对涂层均匀性和一致性的精准控制。
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